韩国SK海力士1月10日表示，他们在半导体生产流程中引入了人工智能(AI)解决方案，提高生产效率和良品率的。
SK海力士从去年12月开始在部分半导体生产工厂引进了人工智能解决方案“panoptis VM”。这一系统可以利用传感器数据预测制造工程结果。用于制造微电子器件的薄膜的厚度和折射率与半导体产品质量直接相关，但要想在细微的薄膜中测量这些，需要很多时间和资源，因此很难全部进行测量。
为解决这一问题，SK海力士引入的是Gauss实验室开发的名为“Panoptes VM”的虚拟测量人工智能解决方案，这一方案通过传感器的数据来预测生产过程的结果。
SK海力士的制造、技术副总经理金永植表示：“我们正在致力于实现更加智能化的工厂。在半导体开发及生产流程上引入AI技术，将持续确保技术优势。”
SK海力士目前是将Gauss实验室的人工智能解决方案，引入到了薄膜沉积这一工艺中。薄膜沉积是将薄膜覆盖到晶圆上的关键工艺，薄膜的厚度和反射率直接关系到半导体的质量，但由于薄膜非常薄且小，测量每块晶圆上的薄膜就需要大量的时间及资源。
在报道中提到，在引入Gauss实验室的“Panoptes VM”人工智能解决方案后，SK海力士在提高产量的同时，该系统取得了平均改善21.5%的产品质量参数的效果。
Gauss实验室专注于工业人工智能，SK海力士对这一实验室也进行了投资，在“Panoptes VM”在薄膜沉积工艺这一环节发挥作用之后，SK海力士和Gauss实验室预计会将这一人工智能解决方案用于更多的工艺环节。
